Мэр Москвы Сергей Собянин сообщил, что в ОЭЗ «Технополис Москва» создали первый в России фотолитограф с разрешением 350 нанометров.

«В мире меньше 10 стран, способных создавать это ключевое оборудование для производства микросхем. Теперь в их числе — Россия. Сделали важнейший шаг к переходу на собственное производство микроэлектроники и полной технологической независимости государства», - отметил Сергей Собянин.

Российский фотолитограф создан в партнерстве с белорусским заводом, имеющим огромный опыт в этой сфере.

«Наша установка серьёзно отличается от зарубежных аналогов. Впервые в качестве излучения использовали не ртутную лампу, а твердотельный лазер — мощный и энергоэффективный, с высокой долговечностью и более узким спектром», - подчеркнул мэр.

Мэр Москвы отметил, что на фотолитограф уже есть заказчик. Ведется адаптация технологических процессов к особенностям производства конечного потребителя.

Также сейчас идёт разработка фотолитографа с разрешением 130 нанометров. Завершить его планируется в 2026 году.


Пресс-служба ОЭЗ «Технополис Москва»

Телефон: +7 495 647-08-18, доб. 1208 | Почта: pr@technomoscow.ru 

Подписывайтесь на ОЭЗ «Технополис Москва» в социальных сетях, следите за главными новостями ОЭЗ в telegram-канале и получайте все самые важные известия с доставкой в вашу почту в нашей еженедельной рассылке.