В ОЭЗ «Технополис Москва» создали первый в России фотолитограф с разрешением 350 нанометров

Мэр Москвы Сергей Собянин сообщил, что в ОЭЗ «Технополис Москва» создали первый в России фотолитограф с разрешением 350 нанометров.

«В мире меньше 10 стран, способных создавать это ключевое оборудование для производства микросхем. Теперь в их числе — Россия. Сделали важнейший шаг к переходу на собственное производство микроэлектроники и полной технологической независимости государства», - отметил Сергей Собянин.

Российский фотолитограф создан в партнерстве с белорусским заводом, имеющим огромный опыт в этой сфере.

«Наша установка серьёзно отличается от зарубежных аналогов. Впервые в качестве излучения использовали не ртутную лампу, а твердотельный лазер — мощный и энергоэффективный, с высокой долговечностью и более узким спектром», - подчеркнул мэр.

Мэр Москвы отметил, что на фотолитограф уже есть заказчик. Ведется адаптация технологических процессов к особенностям производства конечного потребителя.

Также сейчас идёт разработка фотолитографа с разрешением 130 нанометров. Завершить его планируется в 2026 году.